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半微量电子天平PWN225DZH  
半微量电子天平PWN225DZH
量程:82/220g ,可读性:0.01/0.1mg ,校准方式:内部校准
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恒温恒湿培养箱HWS-450  
恒温恒湿培养箱HWS-450
工作室尺寸:700×650×950,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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恒温恒湿培养箱HWS-80  
恒温恒湿培养箱HWS-80
工作室尺寸:400×400×500,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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恒温恒湿培养箱HWS-750  
恒温恒湿培养箱HWS-750
工作室尺寸:850×800×1100,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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恒温恒湿培养箱HWS-1000  
恒温恒湿培养箱HWS-1000
工作室尺寸:950×900×1150,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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恒温恒湿培养箱HWS-360  
恒温恒湿培养箱HWS-360
工作室尺寸:650×600×950,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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霉菌培养箱MJP-750  
霉菌培养箱MJP-750
工作室尺寸:850×800×1100,控温范围:0℃ ~60℃,温度波动度≤ ±0.3℃
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霉菌培养箱MJP-750D  
霉菌培养箱MJP-750D
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霉菌培养箱MJP-1000  
霉菌培养箱MJP-1000
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霉菌培养箱MJP-1000D  
霉菌培养箱MJP-1000D
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霉菌培养箱MJP-360S  
霉菌培养箱MJP-360S
工作室尺寸:650×600×950,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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霉菌培养箱MJP-1000S  
霉菌培养箱MJP-1000S
工作室尺寸:950×900×1150,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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霉菌培养箱MJP-750S  
霉菌培养箱MJP-750S
工作室尺寸:850×800×1100,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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霉菌培养箱MJP-80S  
霉菌培养箱MJP-80S
工作室尺寸:400×400×500,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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霉菌培养箱MJP-450S  
霉菌培养箱MJP-450S
工作室尺寸:700×650×950,控温范围:5℃ ~50℃,温度波动度≤ ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度≤ ±3%RH
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生化培养箱SHP-750D  
生化培养箱SHP-750D
工作室尺寸:850×800×1100,控温范围:0℃ ~60℃,温度波动度≤ ±0.3℃
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生化培养箱SHP-1000  
生化培养箱SHP-1000
工作室尺寸:950×900×1150,控温范围:0℃ ~60℃,温度波动度≤ ±0.3℃
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生化培养箱SHP-750  
生化培养箱SHP-750
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生化培养箱SHP-1000D  
生化培养箱SHP-1000D
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人工气候箱RGQ-250N  
人工气候箱RGQ-250N
工作室尺寸:550×500×900,无光照:5℃ ~50℃,有光照:10℃ ~50℃,温度波动度 ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度 ≤ ±5%RH
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人工气候箱RGQ-750N  
人工气候箱RGQ-750N
工作室尺寸:850×800×1100,无光照:5℃ ~50℃,有光照:10℃ ~50℃,温度波动度 ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度 ≤ ±5%RH
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人工气候箱RGQ-450N  
人工气候箱RGQ-450N
工作室尺寸:700×650×950,无光照:5℃ ~50℃,有光照:10℃ ~50℃,温度波动度 ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度 ≤ ±5%RH
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人工气候箱RGQ-360N  
人工气候箱RGQ-360N
工作室尺寸:650×600×950,无光照:5℃ ~50℃,有光照:10℃ ~50℃,温度波动度 ±0.5℃,湿度 50~90%RH,相对湿度波动度 ≤ ±5%RH
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光照培养箱GZP-250N  
光照培养箱GZP-250N
工作室尺寸:550×500×900,无光照:0℃ ~60℃,有光照:10℃ ~60℃,温度波动度 ≤ ±0.5
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光照培养箱GZP-360N  
光照培养箱GZP-360N
工作室尺寸:650×600×950,无光照:0℃ ~60℃,有光照:10℃ ~60℃,温度波动度 ≤ ±0.5
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光照培养箱GZP-450N  
光照培养箱GZP-450N
工作室尺寸:700×650×950,无光照:0℃ ~60℃,有光照:10℃ ~60℃,温度波动度 ≤ ±0.5
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光照培养箱GZP-750N  
光照培养箱GZP-750N
工作室尺寸:850×800×1100,无光照:0℃ ~60℃,有光照:10℃ ~60℃,温度波动度 ≤ ±0.5
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光照培养箱GZP-150N  
光照培养箱GZP-150N
工作室尺寸:500×400×750,无光照:0℃ ~60℃,有光照:10℃ ~60℃,温度波动度 ≤ ±0.5
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自控三元反应釜MSK-SFM-53  
自控三元反应釜MSK-SFM-53
罐体内搅拌桨的转速:100-800RPM(可调节),总功率:2000W,单相,AC 208 - 240V 50/60Hz
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原位高压反应釜RC-HP-IST  
原位高压反应釜RC-HP-IST
反应釜容积:20mL;加热系统:电加热,工作温度:室温~100℃,Pt100测温,加热功率:150W;石英窗口:配备圆形石英窗口,可视直径Ф10mm
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高压视窗反应釜RC-HP-VS  
高压视窗反应釜RC-HP-VS
反应釜容积:50mL(可选20mL、80mL等),加热系统:采用特制加热棒传导铝制模块,工作温度:室温~300℃,K型热电偶测温,加热功率:500W;搅拌系统:内部磁力搅拌,搅拌速度:0~1200rpm
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台式液晶显示反应釜RC-HP-LCD  
台式液晶显示反应釜RC-HP-LCD
工作电源: AC220V 50Hz,反应釜材料:哈氏合金(CH276),另外可根据要求进行定制,反应釜材质:304不锈钢、316L、镍合金、钛合金等,反应釜容积:500mL(可选300mL),转速范围:0-1500rpm
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高压容积可变反应釜RC-HP-CV  
高压容积可变反应釜RC-HP-CV
反应釜容积:40mL(可选80mL),加热系统:可选用电加热、水浴、油浴(可定购高温系统),工作温度:室温~200℃,Pt100测温,加热功率:500W,搅拌系统:内部磁力搅拌,搅拌速度:0~1200rpm
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熔炼铸造炉IMCS-1700-S  
熔炼铸造炉IMCS-1700-S
设备中配有高纯石墨坩埚,最大熔炼量约为80g,感应铜线圈围绕在石墨坩埚周围,以达到快速加热,通过磁搅动来达到合金熔炼均匀
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熔炼铸造炉IMCS-1700  
熔炼铸造炉IMCS-1700
电源要求:电压:380VAC 50Hz ,功率15KW,腔体尺寸:Φ127×228mm ,最高温度:1700℃ ,真空度:1bar
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小型钛金属反应釜RC-Ti-100  
小型钛金属反应釜RC-Ti-100
原料:>99.95%的高纯钛金属,反应釜容积和尺寸:100 ml,55mm OD x 45mm ID x 75mm 高,最高工作温度:RT - 400 °C,工作压力: 0 - 4 MPa,阀:1/4"不锈钢针阀
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静电纺丝机MSK-NFES-1  
静电纺丝机MSK-NFES-1
工作电源:AC220V ,最大功率:1KW,高压电源:输出电压:0-30KV ,输出电流:0-1mA ,数显电压表和电流表,恒流/恒压操作模式
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静电纺丝机MSK-NFES-3C  
静电纺丝机MSK-NFES-3C
电源:220V、380V ; 高压电源电压:0-50kV(常用正15kv-30kv,负1kv-3kv),喷头(针头)直径:Ø0.6mm-Ø1.6 mm,喷头扫描(移动)速度:0.1mm/min-100 mm/min,液体推进器推进速度:0.0001mm/min-1mm/min
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台式静电纺丝机MSK-NFES-3  
台式静电纺丝机MSK-NFES-3
输入电压:AC 208~240V 单相,最大功率:1500W,输出电压:0-30kV,最大电流:0.5mA ,数显电压表和电流表,恒流/恒压操作模式
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过充过放防爆箱MSK-TE903  
过充过放防爆箱MSK-TE903
使用电源:AC 220V,内箱材质:1.5mm厚不锈钢,防爆玻璃:200X200mm,运行环境要求:温度-10℃~100℃ 湿度10~90%无凝露,内箱尺寸:500X500X500mm
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