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等离子磁控溅射镀膜仪VTC-2DC
 
   
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合肥科晶等离子磁控溅射镀膜仪VTC-2DC

输入电源:220V AC 50Hz,输出电压:600 VDC,输出功率:最大500W,整机功率:1000W(包括真空泵)

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2英寸500W直流等离子磁控溅射镀膜仪VTC-2DC合肥科晶产品简介
VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC电源、2英寸的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜,它是一款物美价廉的实验手。

2英寸500W直流等离子磁控溅射镀膜仪VTC-2DC合肥科晶产品技术参数:

用直流磁控溅射仪可获得单相Al

 

设备名称

500W直流等离子磁控溅射镀膜仪-VTC-2DC

 

 

主要参数

 

输入电源:220V AC 50Hz    

输出电压:600 VDC 

输出功率:最大500W 

整机功率1000W包括真空泵)

 

 

  

溅射腔体

 

l采用石英腔体,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 250 mm H(配置直靶头)

                                 尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 290 mm H(配置带角度倾斜靶头) 

l密封法兰:直径为165 mm,采用金属制作,密封采用O形密封圈

 

 

 溅射头&样品台

 

 

 

l溅射头安装靶材直径为2英寸,同时可选配1英寸溅射头

   
    1英寸靶头         2英寸靶头

 

l仪器中安装有直径为50mm的不锈钢样品台,其与溅射头之间距离40-80mm可调 

l样品台可加热加热温度RT-500℃RT为室温) 

l安装有一可手动操作的挡板 

l最大可制膜的直径为:2英寸标配2英寸,如果需要更大尺寸请与我们销售联系

 

 

 

 

  

 

 

 

真空系统
 

 

l安装有KF25真空接口 

l数字真空压力表(Pa) 

l此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含) 

l采用机械泵< 3.8E-2 Torr(参考值

l采用涡旋分子泵< 3.8E-5 Torr(参考值 

l可在本公司选购各种真空泵

 

  

进气

 

l设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶 

l设备前面板上装有一气流调节旋钮,方便调节气流

 

  

 

 

靶材

 

l靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度) 

l可在本公司选购各种靶材

 

 

 

 

薄膜测厚仪(可选)

 

可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上

   

 

  

 

产品外型尺寸

 

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H

   

净重70 kg(不包括泵)

质量认证

CE认证

 

 

 

一年保修,终身技术支持。
特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 

 

 

 

 

 

 

  

 

使用提示

 

 

l有时为了达到理想的薄膜厚度,可能需要多次溅射镀膜 

l为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N) 

l在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 

l要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面 

l超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。 

l等离子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。 

l制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力。

                   
超声波清洗机     等离子清洗机           蒸镀仪          手套箱  

 

 

 

警告

 

l注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。 

l气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕 以下,以安全使用 

l溅射头连接到高电压。为了安全操作者必须关闭设备前装样和更换靶

 

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