合肥科晶磁控溅射镀膜仪VTC-1RF

设备名称

1英寸100W射频磁控溅射镀膜仪VTC-1RF

主要参数

输入电源：220V AC 50/60Hz   

最高使用功率：100W 

靶头数量：单个1英寸磁控溅射靶 

设备功率：800W（包括真空泵） 

样品台加热温度：500℃

 溅射腔体

l采用石英腔体，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 250 mm H 

l密封法兰:直径为165 mm，采用金属制作，密封采用O形密封圈

射频电源

设备有两种射频电源可选分别为：（图一、二）

l300W自动匹配射频电源 

l100W的手动匹配射频电源

图一	图二

注意：

l1英寸靶头最大使用功率为100W 

l自动射频电源的最大功率为300W，但是受靶头限制，最大功率只能使用100W 

溅射头&样品台

l一个1英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接（图一） 

l仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台，其与溅射头之间距离30-80mm可调 

l溅射头角度可调 

l样品台可加热，加热温度室温-500℃ 

l安装有一可手动操作的挡板

l最大可制膜的直径为:4英寸 

l可以单独订购RF连接线作为备用（图四） 

l设备包含一台水冷机，用于靶头冷却（图五）

图一	图二	图三	图四	图五

真空系统
（选配）

l安装有KF25真空接口 

l数字真空压力表（Pa） 

l此系统运行可通入气体运行 

l采用机械泵<1.0E-2 Torr 

l采用涡旋分子泵<1.0E-5 Torr 

l可在本公司选购各种真空泵

进气

l设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶 

l设备前面板上装有一气流调节旋钮，方便调节气流

靶材

l靶材尺寸要求：Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度) 

l可在本公司选购各种靶材

薄膜测厚仪（选配）

可在本公司选购薄膜测厚仪安装在溅射仪上  

产品外型尺寸

540 mm L x 540 mm W x 1100 mm H  

净重：70 kg（不包括泵）

质量认证

CE认证

 质保

一年保修，终身技术支持。
特别提示：1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩埚等不包含在内。

2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

使用提示

l此设备有多种DIY方案可供选择，具体请联系销售部 

l为了保证溅射效果，非导电靶材必须安装铜垫块 

l可在本公司购买单晶基片从A到Z

l本公司溅射镀膜机在500℃已经成功将ZnO溅射在Al2O3衬底上

l有时为了达到理想的薄膜厚度，可能需要多次溅射镀膜 

l为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N） 

l在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 

l要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面 

l超声波清洗（详细参数点击下面图片）：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。

l等离子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。 

l制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。

超声波清洗机	等离子清洗机	蒸镀仪	手套箱

警示

l注意：产品内部安装有高压元件，禁止私自拆装，带电移动机体。 

l气瓶上应安装减压阀（设备不包括），保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下，以安全使用。 

l溅射头连接到高电压。为了安全，操作者必须在关闭设备后才能进行装样和更换靶头等操作。