合肥科晶三靶射频磁控溅射镀膜仪VTC-3RF

设备名称

三靶射频磁控溅射镀膜仪--VTC-3RF

产品提示

1、多种配件可选提示   2、特殊设备尺寸设备    3、科晶实验室邀请提示    4、配件妥善保管提示

主要特点

·标配的石英腔体（也可选配金属腔体）方便观察（图1） 

·相比传统溅射仪，体积小巧，拆装方便（图2） 

·模块化设计，靶头，电源等多种可选，自由DIY（图3） 

·基台可旋转可加热 

·可溅射金属和氧化物。实验室已初步制备了 氧化锌、碲化铋、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。

图1		图2		图3

基本参数

1、输入电源：220V AC50/60Hz 

2、设备功率：<1500W 

3、靶台加热温度：500℃ 

4、样品台转速：0-10r/min 

5、靶头可调倾角：0-25度 

6、溅射腔体尺寸：278mm OD x 272mm ID x310mm H。 

7、靶材尺寸要求：1英寸磁控溅射靶头Φ25.4mm ×（0.1-3）mm(厚度）    2英寸磁控溅射靶头Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度) 

8、最高使用功率：1英寸磁控溅射靶头100W     2英寸磁控溅射靶头300W

机体结构

·设备配备三个直流射频通用靶头，1英寸2英寸尺寸可选。 

·仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台，最高加热温度是500℃（图1） 

·配有300W自动匹配射频电源和500W的直流溅射电源（可自由选择）（图2）

·设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶（图3） 

·配有靶头电动升降台（图4） 

·配有高纯石英密封罩（图5）

图1	图2	图3	图4	图5

配置可选

产品外形尺寸

·700mm L x 770 mm W x 1900 mm H 

·净重：80 kg（不包括泵）

备注：此产品尺寸为参考值，可能存在一定的误差。如果您对尺寸有精确的要求，请在购买前和我公司联系确认，以免给您造成不便。

实验室参考案例

以下数据仅针对合肥科晶设备，不具有普遍性。 

实验案例照片 

氧化锌		ATO		ITO
镁		碲化铋		铂
金		银		铜
铝

相关视频

应用技术提示

1、为了保证溅射效果，非导电靶材必须安装铜垫块 

2、有时为了达到理想的薄膜厚度，可能需要多次溅射镀膜 

3、为了得到较好的薄膜质量，必须通入高纯气体（建议> 5N） 

4、在溅射镀膜前，确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净 

5、要达到薄膜与基底良好结合，请在溅射前清洁基材表面 

6、在分子泵出口安装有一个可手动操作的挡板 

超声波清洗：（1）丙酮超声（2）异丙醇超声-去除油脂（3）吹氮气干燥（4）真空烘箱除去水分。

等离子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化学键，可祛除额外的污染物。

制造一个薄的缓冲层（5纳米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以应用于改善金属和合金的附着力。 

警

示

CE认证

质保